在ASML年度報告中獲贊!納米顆粒干法沉積技術引ling市場創新!
荷蘭阿斯麥光刻ASML是半導體行業的供應商,為芯片制造商提供硬件、軟件和服務,以大規模生產集成電路(芯片)。在其2023年年度報告中稱贊VSParticle的旅程不僅體現了其當前的成功,也體現了其重塑材料科學的創新方法。隨著VSParticle在材料研究方面不斷取得突破,MakeNextPlatform的支持將助力推動創新和更廣泛的技術進步。VSParticle火花燒蝕納米氣溶膠沉積系統可用于MEMS制造氣體傳感器氣敏涂層,電催化劑涂層的制備,是為數不多可以在常壓狀態下制備20nm以下納米粒子的Nat Commun 浙江大學&浙江工業大學:熱穩定倒載型CeAlOx/Ni結構化催化劑催化CO2加氫制甲烷
通訊作者:林麗利教授、姚思宇研究員通訊單位:浙江工業大學、浙江大學研究概述NatureCommunications鎳是二氧化碳加氫制甲烷的多相催化劑中廣泛使用的廉價活性金屬中心。然而,基于鎳的催化劑在二氧化碳甲烷化反應中遭受嚴重失活,原因是在劇烈放熱反應中不可避免地產生局部熱點,導致不可逆的燒結和焦炭沉積。在這里,研究展示了構建在鎳泡沫結構支撐上的反CeAlOx/Ni復合材料在廣泛的操作溫度范圍內(240至600°C)實現了顯著的二氧化碳甲烷化催化活性和穩定性。值得注意的是,CeAlOx/Ni/